GPU要渲染什么，是由CPU进行通知、决定的。首先，CPU必须要知道场景中一切对象的位置，这是场景中一切可呈现物体的基本属性。同时，CPU要负责计算相关逻辑和变换（空间方面），包括但不限于动画、模型和对象的位置、物理效果、AI、对象的生成与销毁、对象的出现与消失、隐藏与取消隐藏等。
渲染遮挡（剔除）优化要点

设置距离剔除（下图为Actor设置，植被工具中也有CullDistance选项控制）
设置预计算可视性体积，需要编译光照
命令stat initViews查看预计算cost
命令stat engine查看渲染三角形数目

几何体渲染

相同属性的多面体会调用一次drawcall，同一几何体的不同材质会多次调用
basePass负责几何体渲染，gpu逐次调用drawcall渲染并缓存到Gbuffer用于后续处理
查看命令：stat RHI，drawcall调用次数（2000-3000合理，>5000太高）
光照会影响drawcall的调用次数
drawcall次数对性能的影响甚至高于多面体模型三角形的个数（高模影响），每次调用都会获取下次渲染信息，调用间隔和传输损耗对影响很大，这意味着过多复杂的材质可能比高精度模型的渲染开销更大
RenderDoc插件用于截帧，观察渲染流程：secene列表下每一次都是一次drawcall调用，时钟标记可以看到耗时，依次找出场景中drawcall最耗时的Actor。右边可以预览Gbuffer缓存的内容
静态网格体和下属的组件都会逐个调用drawcall，减少drawcall次数的两个方法：

1、合并模型

2、使用LOD优化
- 合并或使用少量更大的模型而非大量小型模型
  - 大模型减少drawcall调用，但是会带来其他问题：如碰撞检测（CPU计算），遮挡，光照贴图会更复杂
  - 折中策略：使用模块化工作流，即小模型导入，场景搭建中对小模型适度合并，一般远处的模型群需要合并，具体合并策略：
    - 同一区域广泛使用(Count)的面数少(Tris)且材质类型相同且合并后面数适中(SumTris)的模型最佳，面数可以使用统计功能筛选：
      
      window - statistic - primitive stats
  - 合并模型来优化drawcall的收益取决于项目的实际帧率需求，权衡时间和收益，否则没有必要过多考虑模型合并的问题
  - 除了合并模型，第二个方面是使用LOD：随着距离变远模型边数降低（按等级50%衰减），占用额外内存（空间换时间），但是不影响drawcall次数。HLOD（分层LOD）是个高级版本，对一组模型按距离同时优化面数和drawcall次数（同组的模型只调用单个模型的drawcall次数，典型例子是植被系统！）
    - 启用：World Settings -> LODSystem -> Enable Hierarchical LODSystem
    - 可视化：window - Hierarchacal LOD
    - 室外场景往往需要进行距离剔除的同时设置HLOD
Vertex Shaders(顶点着色器)：着色器通常高效且并行运算（super optimized），顶点着色器工作于渲染流程的开始阶段
- 转换局部坐标到世界坐标
- 处理顶点的绘制和上色
- 可以用于世界场景偏移，材质节点中的worldPositionOffset，这种偏移只是视觉上的效果，并不是真的位置偏移，如物理和碰撞盒位置不变（因为是CPU计算的），这一点的典型应用场景：
  - 布料、旗帜等摆动
  - 水材质波动效果
  - 植物随风摆动效果
- 禁用远距离世界坐标偏移！其他顶点着色器优化策略：

光栅化和GBuffer

光栅化（Rasterizing）：将渲染信息映射到一个像素网格图像，光栅化过程随着drawcall的逐次调用执行
过度着色：一个像素点只会同时用于显示一个多边形，而由于硬件原因像素着色器每次按2*2个像素进行着色，这会导致实际着色范围要大于本应渲染的区域
- 可视化：视窗里viewmode - optimizeViewModes - Quad Overdraw
  - 可以看到距离越远的物体渲染越慢，因为会有更多的多边形覆盖更小的像素区域（多边形的像素密度增加了），导致过度着色严重
  - 关于过度着色的具体策略：
  - 再次提到LOD：除了减少多边形数量，也会优化过度着色
  - 过度着色在前向渲染中影响较大，延迟渲染中影响不大，因此一般也不需太关注
Gbuffer概念：引擎的每一帧渲染都会输出不同的images，缓存到Gbuffer，之后的处理都是用Gbuffer中的图像
- RenderDoc中能直观预览RGBA通道对应的图像：
  
  R：世界法线贴图(GbufferA)&金属色(GbufferB) G:高光 B：粗糙度
- 自定义深度：用单独的渲染目标或者说GBuffer缓存模型，然后用于特效等（轮廓特效）
  - 视口 - 高分辨率截图high resulotion screenshot - use custom depth as mask

渲染和纹理

textures在导入时会被压缩，不同平台不同，PC使用BC(DXTC)，压缩纹理是因为内存和带宽限制，不压缩大小差距巨大，纹理太多或太大会导致渲染卡顿（传输延迟）
NoramalMap使用BC5压缩，只保留R/G通道（蓝色的可以计算出来），如果导入的纹理设置不对需要修改
带alpha通道的texture使用BC3, 不带alpha的使用BC1, 禁用压缩的话可以选择RGBA8
渐进纹理（MipMaps）：纹理随远距离使用更低分辨率的纹理(2次幂衰减)，这项技术用于解决噪点问题
- window - shadercode - HLSL code可以查看当前材质节点的shader源码
- 材质编辑依赖引擎大量的shader模板，切换材质域或blendmode导致可用参数变化，本质是切换了shader模板；可以创建自己的shader代码加入项目或插件；每次模板会生成不同用途的着色器版本（材质细节面板的Usage）
像素着色器对性能的影响非常大，分辨率越高材质越复杂影响就越大。如果想概括导致渲染变慢的原因，通常这四个方面：drawcall调用次数，像素着色器，半透明，动态阴影导致了几乎所有的性能问题。
- 像素着色器复杂度可视化：视窗viewmode - optimization viewmodes- shader complexity (Alt + 8)
UE4的材质基于PBR，所有模型材质和着色都是建立在相同的PBR系统上
材质的纹理采样有数量限制：
- project settings - reflection capture solution设置反射捕获的分辨率
- skylight是一种备份反射捕获
  
  转存失败重新上传取消转存失败重新上传取消

静态光照和静态阴影

静态光照预先计算并存储到光照贴图lightmap
高效但会占用内存，无法动态调整，常用于全局光照烘焙
光照贴图依赖UV布局，因此有UV空间上限限制
光照贴图与底色贴图直接相乘，附加在顶层，类似一种自发光

转存失败重新上传取消转存失败重新上传取消
全局光照设置选项：worldsetting - lightmass
- 烘焙后的光照贴图在lightMass面板的光照贴图属性组下
- lightmass时一个独立的渲染器，支持网络分布式渲染
- lightmass烘焙关联设置：
  
  1、确保场景中的所有模型的UV通道贴图正常（导入时选项：生成uv lightmap）
  
  2、光照构建质量；3、lightmass面板参数；
  
  4、Lightmass Importance Volume(体积内的光照质量更高)
间接光照质量：静态光照解决动态模型光照变化的方法，通过ILC存储光照网格点信息，当达到一个网格点时叠加光照到移动模型身上，光照就会发生变化
- 可视化：show - vasualize - volume lighting samples （需要光照烘焙后可视）
- 在可移动是模型actor细节面板Indirect Lighting Cache属性设置质量级别
静态光照优化策略：

转存失败重新上传取消转存失败重新上传取消
- 可视化：Viewmode - OptimizationViewmodes - Lightmap Desity
  
  展示光照UV贴图，用于发现异常扭曲，红色为异常，可以在静态模型的细节面板
  
  lighting - overriden light map res 调大或调小（动态修改无需重编）

动态光照和动态阴影

四种动态阴影
- 常规阴影：设定为可移动类型的actor，实时阴影，高对比度而且非常锐利，以至于阴影成像经常过渡
- 固定光源阴影：设定为固定类型的actor，混合使用全局静态光照烘培的阴影和动态阴影，由于混合了静态会软化成像，阴影效果更加柔和，不会太锐利（注：静态类型无阴影）
- 级联阴影贴图CSM：用于室外大型场景的动态阴影过渡，在远距离阴影渐进消失，随摄像机距离变远逐级替换低分辨率阴影贴图。只能用于定向光源，细节面板可以控制级联层数，一种兼容性能的折中方案
- 距离场阴影：CSM的折中方案在室外远距离渐进消失阴影，远距离无法投射阴影仍然比较突兀。相比CSM，距离场更适用于长距离动态阴影方案，不够精确，但性能损耗很低
点光源与动态阴影：类似反射球捕获，点光源在球形遮罩内计算光源（边缘渐进衰减），当多个点光源范围重叠时会重复计算导致额外开销
动态光源本身性能损耗很小，导致性能问题的不是光照而是动态阴影，因为渲染阴影需要光源到所有几何体的距离信息。阴影由像素着色器完成，所以像素越多开销越大。因为光源离摄像机越近涉及到光源渲染的像素越多，所以开销也越大，因此尽量缩小光源半径并且避免重叠。
动态阴影优化策略
- 不需要的阴影就关闭
- 多面体面数在几何体渲染时本身影响不大，但是会影响阴影从而影响性能
- 在室外远距离使用距离场阴影优化
- 在距离足够远时直接关闭光源和阴影
- 尽量缩小光源半径并且避免重叠

雾和半透明

半透明是ue中影响性能最大的因素之一，延迟渲染中半透明比较困难，被推迟到渲染最后阶段进行
表面材质尽量使用蒙版混合模式代替半透明混合模式，如果使用半透明尽量设置shading model成无光照，如果非要半透明，则lighting mode设置成表面前向着色

两种距离雾：大气雾和指数级高度雾

转存失败重新上传取消转存失败重新上传取消

后期处理

渲染末尾阶段使用Gbuffer再度计算产生特效，如泛光light bloom，光束light shaft，景深&背景模糊blur，运动模糊motion blur，颜色分级LUT&颜色校正，曝光explosure等

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[实时渲染补充内容]

LOD

LOD根据物体与摄像机的距离来设置模型多边形的数量，远离摄像机时自动降低分辨率级别来优化性能

LOD从0开始，表示原始最高分辨率，屏幕中所占大小比例表示距离远近

模型mesh的细节面板可以手动设置LOD或外部导入模型LOD，也可以使用UE4的LOD组功能自动设置（推荐），设置分组后可查看各级LOD的具体参数，如该级别LOD的屏幕比例阈值

转存失败重新上传取消转存失败重新上传取消
确保AutoComputeLODDistance开启，左上角可实时预览LOD参数
室外场景可同时使用LOD和剔除距离
HLOD是一种LOD进化版本，不再对单个模型设置，而是通过生成集群和生成代理对一组Actor设置LOD，代理模型就是组合Actor之后的简易模型代替一组模型，从而极大降低多边形

贴花Decals

可以投射在静态网格体或骨骼网格体表面的材质。可以用于血迹弹孔涂鸦高亮等效果。
从模式（Modes）面板添加 "延迟贴花（Deferred Decal）"Actor。然后创建材质域为延迟贴花的新材质。再将该材质应用给贴花Actor。注意轴向投射距离，靠近混合，过远淡出
混合模式Mask，同时使用法线贴图和不透明蒙版产生立体贴花效果
多层贴花使用sort order控制叠加顺序

次表面散射补充

次表面散射(Sub-Surface-Scattering)简称3S，用来描述光线穿过透明/半透明表面时发生散射，光从表面进入物体经过内部散射，然后又通过物体表面的其他顶点出射的光线传递过程。
常应用于蜡烛，大理石，玉石以及皮肤材质

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