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【UE4 全局光照明】Lightmass光照烘培笔记_liuk718_ue烘焙光照有噪点

作者：花生_TL007 | 2024-02-16 06:43:38

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ue烘焙光照有噪点
1.GI（间接光）计算实际是造成目前次世代游戏引擎不真实的罪魁祸首，UE4其实完全能达到离线渲染的GI质量水平，关键是 参数的调整和 大量的计算时间，关于GI也就是LightMass计算的调节，UE4在编辑器中给出了4个预制档位。

以下谈论的部分不涉及LightMass光照贴图的分辨率影响。光照贴图分辨率越小越好，如果你明确阴影产生的是锯齿而不是噪点，那就该加分辨率。
这四个档位实际上只是针对具体的基本参数的倍率关系，具体倍率在
Epic Games/4.9(你的引擎版本号）/Engine/Config/BaseLightmass.ini
文件中（记事本打开）Crtl+F搜索对应档位关键词可以找到。可以自己调也可以保持默认以防调整太夸张。

2.另外在引擎中另一个地方的参数同样会影响基础烘培参数，那就是“世界设置”，如下。

涉及到的参数包括
1. Static Lighting LevelScale（下文简称SLLS)，世界尺寸缩放，这里的缩放指的用于计算光照的参考尺寸，而不是真正的改变场景尺寸，默认为1，可以小到0.1。 重点参数，越小计算采样的基础精度（采样数上升）越高。计算时间受该参数强烈影响。

2.Num Indirect LightingBounce(下文简称NILB)，反弹次数，对计算时间影响不大，越高GI反弹次数越多，同时如果精度不够，也意味着噪点将会更容易产生。可以大到100。非重点参数。

3. Indirect LightingQuality(下文简称ILQ)，间接光计算质量，默认值1，可以大到10， 重点参数，对精度影响巨大，计算时间也和这个值成整倍数上升。

4.Indirect LightingSmoothness(下文简称ILS),结果模糊度，用于模糊计算结果，平滑噪点，基本保持1的值，过大细节丢失，过小噪点凸显。
综上所诉，最终的质量由 “采样数量”和 “采样精度”共同决定，缺一不可。
下面来分别讲解这两者的调节，只讨论质量，不计时间成本。

“ 采样数量”：在引擎中，受SLLS的值控制，在文首提到的BaseLightMass.ini文件中，也受NumIrradianceCalculationPhotons和IndirectPhotonScarchDistance两者共同的影响，就是说两者要调一起调，单独调没用。无论在引擎还是在ini文件中调，都行，选其一就行。如下图。


“采样精度”：在引擎中，受ILQ控制，在BaseLightMass.ini中，受NumHemisphereSamples 或者NumHemisphereSamplesScale的控制，三者选其一即可。

最后说一说渲染时间，想要好的效果，要花费不少的时间，如果是单台I7级别的电脑，简单场景高质量花费十多个小时很正常，复杂场景就更多了，所以建议有条件的使用引擎路径中的SwamCoordinator小软件
（可以在引擎安装目录搜索出来）联机渲染，效率高很多，具体设置这里就不展开了，Google。

以上标蓝色的两者都调好了，预制的4个档位只是倍率关系，具体情况具体选，已经不重要了，下图是高参数的效果，完全不输于离线渲染引擎，而且还是360度全方位的计算。如下。











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