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摘要:对于增强型GaN功率晶体管的发展,栅压摆幅和阈值电压稳定性通常是互相排斥的。本文展示了一种具有内置p-GaN电位稳定器(PPS)的金属/绝缘体/p-GaN栅极高电子迁移率晶体管(MIP-HEMT),能够同时实现大的栅压摆幅和增强的阈值电压稳定性。MIP栅结构将栅压摆幅扩大到19.5V,并作为一个交流耦合电容器(常用于栅驱动器中,以加快欧姆型p-GaN栅极高电子迁移率晶体管的开关速度)。PPS由两个D型HEMT并联在金属栅和p-GaN栅之间组成。其中一个D-HEMT提供一个小的恒定栅电流,以维持p-GaN在导通状态下的电位。另一个D-HEMT将p-GaN与源极接地,在关断状态下消除浮动的p-GaN效应,从而实现卓越的阈值电压稳定性。
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