IC后端设计中的shrink系数设置方法_工艺的shrink设置

作者：小桥流水78 | 2024-07-17 00:17:01

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工艺的shrink设置

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在一些成熟的工艺节点通过shrink的方式（光照过程中缩小特征尺寸比例）得到了半节点，比如40nm从45nm shrink得到，28nm从32nm shrink得到，由于半节点的性能更优异，成本又低，漏电等不利因素也可以通过工艺参数调节，导致pre shrink的工艺节点无人问津，这篇文章我们仅统计在数字后端设计中scale factor的设置方法。

一般scale factor都是在RC model（itf、tluplus、nxtgrd等）文件中设置好的，但不排除一些工艺使用的与pre shrink工艺相同的规则文件，需要人为在后端环境中手动设置，RC model文件中设置好后，环境中

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