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“2.5GHz频率 hierarchy DVFS低功耗A72培训”
2.5GHz 12nm 景芯A72 upf DVFS 后端实战训练营!随到随学!
课程采用hierarchy/partition flow,先完成单核A72实战,然后完成A72 TOP实战!训练营简介:
Instance:315万
Gate count:2600万
Frequency: 2.5GHz
Power domain:7个,hierarchy UPF设计
EDA工具有VCS/Fusion Compiler/VCLP
EDA工具有innovus/Starrc/PT/Voltus/formality/LEC/Calibre
EDA工具有Redhawk-sc全网首发python版
授课形式:视频+文档+上机实践,真实项目flow,一对一答疑!
ICer加班太多,项目采用视频模式,随到随学!
景芯A72训练营您将掌握以下知识:
掌握hierarchy UPF文件编写,掌握Flatten UPF文件编写、UPF验证。本项目采用hierarchy UPF方式划分了7个power domain、voltage domain。
掌握power switch cell,包括SWITCH TRICKLE、SWITCH HAMMER。掌握低功耗cell的用法,选择合适的isolation cell、level shifter等低功耗cell。
掌握Power gating,Clock gating设计技术。
掌握Multi-VT设计技术,本项目时钟树都是ULVT,动态功耗小,skew小。
掌握DVFS技术,ss0p9 2.5GHz、ss0p72 2.0GHz,,其中sram不支持ss0p63。要做ss0p63的话,给sram vddm单独一个0p7v的电源即可。
掌握multibit cell的用法,本项目CPU里面的mb高达95%,选择合适的multibit cell得到超高的CPU利用率。INNOVUS里面一般不做mb的merge和split。所以前后一样的,一般综合做multibit的merge split。
根据TOP Floorplan DEF进行CPU子系统的partition以及pin assignment。
Top的Power stripe的规划及其push down。
SpecifyBlackBox,将CPU core镜像partition。
手动manual cut the BlackBox的方法,掌握复杂的floorplan设计方法经验。
VerifyPowerDomain,检查低功耗划分以及UPF的正确性。
Pin assignment,根据timing的需求进行合理的pin脚排布,并解决congestion问题。
掌握Timing budget。
掌握利用Mixplace实战CPU的自动floorplan,掌握AI的floorplan方法学。
掌握Fusion compiler DCG,利用fusion compiler来完成DCG综合,进一步优化timing与congestion。
掌握hierarchy ICG的设计方法学,实战关键ICG的设置与否对timing的重大影响。
掌握Stapling技术,实战power switch cell的布局和特殊走线的方法学,掌握CPU子系统的powerplan规划及实现,保证CPU子系统和顶层PG的alignment。
掌握CPU子系统和TOP的时序接口优化。掌握TOP isolation cell的placement以及isolation cell input电学特性检查。
掌握TOP和CPU子系统的clock tree Balance优化处理,common clock path处理。时钟树结构trace和时钟树评价。
CPU子系统的DRC/LVS检查
TOP系统的DRC/LVS检查
Hierarchy & Flatten LVS检查原理及实现方法
静态时序分析&IR-Drop
DMSA flow
根据Foundry的SOD(signoff doc)的Timing signoff标准建立PT环境。
Star RC寄生抽取及相关项检查
Timing exception分析,包括set_false_path、set_multicyle_path解析。
PT timing signoff的Hierarchical和Flatten Timing检查
PT和PR timing的差异分析、Dummy insertion和with dummy的Timing分析
IR-Drop分析
训练营部分文档:
DPT技术,即Double Patterning Technology。这是在20nm以下制程中出现的一种新技术。大家知道,随着芯片工艺尺寸不断减小,每层金属(metal)的间距也变得越来越小,传统的光刻技术已经无法保证设计要求的精确性。为了解决这个问题,我们在刻同一层metal的时候, 用两套掩膜板(mask)加以区别,如下图所示:
double pattern就是先进工艺下底层金属/poly加工制造的一种技术,先进工艺下DUV光刻机光的波长已经无法直接刻出很小的尺寸(宽度或者间距),会形成如下图所示金属短接的问题。
所以可以用两层甚至更多层mask来制造一层金属,如下图所示,所以可以看到版图中有红色和绿色(但看一种颜色,它们的间距光刻是可以加工的)。
那我们如何给这一 metal 层上的 routing 分配 mask 呢?这要根据 lef 里面SAMEMASK rule 的定义,
–SPACING… SAMEMASK
–SPACING… ENDOFLINE … SAMEMASK …
–SPACINGTABLEPARALLELRUNLENGTH SAMEMASK …
–EOLEXTENSIONSPACING… SAMEMASK …
举个简单的spacing rule例子,如果两条相邻的wire之间的距离小于我们 这里的定义,那说明这两条wire需要分配到不同的掩膜板。
景芯训练营同学问,在M3增加电源的strip后,需要将其连接到M10上,不能通过via连接吗,而是选择stapling?stapling的作用是什么?
答:这里和doublepattern有关,越是先进工艺要求越严格。当然12nm是可以不需要stapling。stapling和viapillar差不多,可以理解为在doublepaterrn下,不可以使用宽metal,那这时,我们的power怎么接?总不能只接一个via吧。invs提供一stapling这种画一小段一小段metal的方法给我们。
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景芯SoC系统分为三个层次的功耗管理,并集成低功耗RISC-V处理器,集成ITCM SRAM、DTCM SRAM,集成MIPI、ISP、USB、QSPI、UART、I2C、GPIO等IP,采用SMIC40工艺流片。
(一)SoC设计课程,您将学会
高速接口的Verilog设计实现
从图像算法到RTL设计实现
MIPI、ISP的Verilog实现与仿真
Lint、CDC检查及UVM验证
后仿真
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(二)SoC验证课程,您将学会
SoC子系统的UVM环境搭建
SoC子系统的UVC环境搭建
SoC子系统的VIP环境搭建
SoC子系统的DMA SRAM UVM联合验证
SoC子系统的UART UVM验证
SoC子系统的I2C UVM验证
SoC子系统的QSPI UVM验证
SoC子系统的C驱动验证(该部分放在设计课程部分)
仅验证一门课程内容就抵得上其他培训机构的3-4门课程,价格仅其1/6
(三)SoC中端课程,您将学会
DFT设计(芯片级)
Synthesis逻辑综合(芯片级)
低功耗UPF设计、CLP技术
formal验证等技术
仅中端一门课程内容就抵得上其他培训机构的4-5门课程,价格仅其1/6
(四)SoC后端课程,您将学会
低功耗设计
布局布线(低功耗FF flow)
StarRC/QRC
STA/Tempus
功耗分析
DRC/LVS设计
仅后端一门课程内容就抵得上其他培训机构的3-4门课程,价格仅其1/6
ISP图像处理
dpc - 坏点校正
blc - 黑电平校正
bnr - 拜耳降噪
dgain - 数字增益
demosaic - 去马赛克
wb - 白平衡增益
ccm - 色彩校正矩阵
csc - 色彩空间转换 (基于整数优化的RGB2YUV转换公式)
gamma - Gamma校正 (对亮度基于查表的Gamma校正)
ee - 边缘增强
stat_ae - 自动曝光统计
stat_awb - 自动白平衡统计
CNN图像识别
支持手写数字的AI识别:
仿真结果:仿真识别上图7、2、1、0、4、1、4、9
景芯SoC 3.0 ISP:
景芯SoC V3.0 DFT方案:
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